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043 二十九连抽EUV光刻机关键技（第1页）

这么多年以来，

国内研发不出先进光刻机的原因，正是这三个核心模块迟迟无法取得突破，

不能到达国际先进水平。

而想要向外国购买相关技术，

却面临严密的技术封锁。

事实，

国外卡脖子的方法很简单，

既不向夏国出售先进的euv光刻机产品，

也不向夏国出售这三个核心模块相关的技术，

这样夏国就永远追赶他们的脚步。

千方百计限制夏国获得相关技术，

目的就是不让夏国研发出euv光刻机，

死死压制夏国芯片产业的发展，

只能购买他们的昂贵芯片，

每年从夏国赚走三千多亿美元，

简直美滋滋！

而euv光刻机，

是全球最先进的光刻机产品！

7n芯片，

以及小于7n制程芯片，

只有这种光刻机才能制造。

可如此先进的设备，

放眼全球，

也只有荷国的阿斯麦公司能够制造。

可想而知，

如此先进的光刻机，

对这三个核心模块的要求有多高。

这下好了，

只要抽到这三项技术，

euv光刻机三个核心模块就不成问题，

研发一台完整的euv光刻机自然就不是什么难事。

光刻机是龙芯永远的痛！

因为龙芯主业是设计和制造芯片。

如果荷国光刻机巨头阿斯麦，继续提供duv光刻机，

龙芯曾一度有望制造出10nai芯片，

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